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隔振光學平臺是一種用于精密光學實驗和測量的關鍵設備，主要功能是隔離外界振動干擾，為光學元件提供穩定的工作環境。
一．工作原理
1.氣浮隔振：利用壓縮氣體作為支撐和隔振介質，通過氣體彈簧和阻尼系統來隔離振動。氣浮支撐腿內部充滿壓縮氣體，可調節氣壓控制平臺剛度和固有頻率，阻尼系統則通過氣體流動或粘滯阻尼材料吸收振動能量，自動調平系統通過傳感器和氣壓調節保持平臺水平穩定。
2.低頻高阻尼隔振：采用超軟剛度支撐，如特殊設計的空氣彈簧、磁懸浮或復合彈性材料，將系統固有頻率降至 0.5-2Hz，遠低于普通建筑物振動頻率，同時在平臺結構中加入粘彈性聚合物等復合阻尼材料，或配備主動 / 半主動阻尼裝置，快速消耗振動能量，抑制共振。
二．結構組成
1.臺面：通常采用蜂窩結構或金屬復合材料，如鋁合金、不銹鋼等，兼顧輕量化和高剛性，表面有高精度平面度，部分臺面有螺紋孔，便于安裝光學元件。
2.隔振系統：包括被動隔振和主動隔振（可選）。被動隔振使用彈性元件支撐臺面，主動隔振通過傳感器實時檢測振動，用電動機或壓電陶瓷產生反向力抵消振動。
3.阻尼層：在臺面或支撐結構中填充粘彈性材料，如聚氨酯、丁基橡膠等，將振動能量轉化為熱能耗散。
三．關鍵性能參數
1.固有頻率：被動隔振平臺典型值為 0.5-5Hz，頻率越低，隔振效果越好，尤其對低頻振動。
2.阻尼比：表征振動衰減速度，一般設計為臨界阻尼的 20%-30%，避免共振放大。
3.振幅穩定性：衡量平臺在振動環境下保持穩定的能力，高*平臺可將外界振動衰減至原振幅的 1/100 以下。
4.臺面平整度：通常要求≤0.1mm/m2，確保光學元件對準精度。
四．應用領域
1.光學科研實驗：如激光干涉測量、原子力 / 電子顯微鏡、量子光學實驗、引力波探測等。
2.精密制造：光刻設備、精密光學裝配等對振動敏感的制造工藝。
3.生物顯微成像：為生物顯微鏡提供穩定環境，確保成像質量。
五．選型注意事項
1.負載匹配：根據實驗設備重量選擇合適承載能力的平臺，避免過載或剛度不足。
2.環境評估：預先測量實驗室振動頻譜，針對性選擇隔振頻率范圍。
3.安裝位置：盡量遠離振源，如通風設備、電梯等，必要時搭配獨立地基。
六．產品推薦
卓立漢光ZVI-FT系列氣浮主動隔振平臺，面向科研與工業高敏場景，ZVIFT 是一款“6DOF 氣浮 + 主動"的寬頻隔振平臺，在 0.8–150 Hz 提供顯著衰減，適合需要超低頻抑制、自動水平與寬頻振動控制的光學 / 計量 / 半導體應
• 卓*隔振性能：采用氣浮與主動隔振結合技術，主動隔振帶寬 0.8 - 150Hz ，對超低頻振動抑制出色，臺面穩定性≤±8μm ，在 2Hz、5Hz、10Hz、20Hz 處傳遞率低，隔振效果遠超同類。
• 強大負載與定制能力：標品負載 700 - 7500KG ，能滿足大型設備搭載需求。核心控制系統自研，支持臺面材料、厚度、孔徑、孔距等定制，適配不同實驗場景 。
